Hapnik - vaba vask (ASTM B111 OFC10200)on hapnik - vaba vask (OFC) materjal, mis vastab USA ASTM B170 standardi C10200 määramisnõuetele. OFC perekonna põhiliikmena on see tuntud oma äärmiselt madala hapnikusisaldusega (vähem või võrdne 0,0005%), kõrge puhtusega (suurem või võrdne 99,95% CU -ga), suurepärase elektri- ja soojusjuhtivuse ning kõrge usaldusväärsuse atmosfääri vähenemisel. "OFC" tähistab "Oxygen - vaba vask" ja "10200" on selle ASTM -i standardnimetus. OFC10200 jõudlus on tavalise hapniku - vaba vase (näiteks TU2) ja Premium High - puhtuse hapniku {- vaba vask (näiteks OFT1 / C10100). See on kõrge - kvaliteetne vaskmaterjal, mida kasutatakse laialdaselt elektroonilistes vaakumrakendustes, kõrge - lõppjuhtmetes ja soojuse hajumisel.
ASTM B111 OFC10200 rafineeritakse spetsiaalse sulamisprotsessi kaudu (vaakum või kaitsevool), mis on loodud vase lahustunud hapniku minimeerimiseks. Selle põhiomadus on hapnikusisalduse range kontroll äärmiselt madalale tasemele (väiksem või võrdne 0,0005%), mis on oluliselt kõrgem kui ülaosa - astme hapnik - vaba vask OFT1 (vähem või võrdne 0,0003%), kuid palju madalam kui tavaline puhas vapik (TP) See tagab:
Kuproksiidi (CU2O) osakeste olemasolu elimineeritakse.
Elektriline ja soojusjuhtivus on lähedased teoreetilistele väärtustele.
Naiuslikkus ja sügava joonistamise omadused on suurepärased (eriti pehmes olekus).
Resistentsus "vesinikuhaigusele" on märkimisväärselt paranenud kõrge temperatuuri, kõrge vaakumi või tugevalt vähendava atmosfääri (näiteks vesiniku) korral, takistades tõhusalt vesiniku ja hapniku reaktsioonist põhjustatud pragunemist ja pragunemist veeauru moodustamiseks. See tagab materjali kõrge puhtuse ja struktuurilise homogeensuse.
ASTM B111 C10200 õmblusteta vasktorude tootmisprotsess
OFC10200 tootmise tuum on õhukindlus ja desoksüdatsioon ja puhastamine:
1. kõrge - puhtus toorained: valige kõrge - kvaliteetne Catood Copper (näiteks Cu - Cath-1).
2. sulamine:
Kaitse atmosfääri sulamine: sulamine toimub induktsiooniahjus kõrge -} puhtuse inertse gaasi kaitse all (näiteks argoon, äärmiselt madala kastepunktiga). Sageli kasutatakse grafiidi tiigleid/katte aineid.
Vaakum sulamine (valikuline): vaakum sulamist võib kasutada mõne kõrge - nõudluse jaoks.
Deoksüdatsioon ja puhastamine: sügav desoksüdatsioon tehakse kaitses atmosfääris, kasutades süsiniku (grafiit) või väga väikest kogust tugevat deoksüdeerijat (näiteks fosfori vask, rangelt kontrollitud jääksisaldusega) lahustunud gaaside (näiteks hapnik ja vesinik) eemaldamiseks.
Kaitseõhkkonna valamine:
Upcasting: Sula tõmmatakse ülespoole läbi vormi pideva kõrge - puhtuse inertse atmosfääri all, et ta tugevdaks, moodustades hele, tiheda vaskvarda (traadi varras). See on peavoolu, kõrge - tõhususe protsess. Horisontaalne pidev valamine/kaitsev atmosfääri valamine: sula valatakse pidevalt inertse atmosfääri alla, moodustades kangid (vardad, tahvlid) või valuplokid.
Kaitseõhkkonna töötlemine:
Kuum töötamine (ekstrusioon, veeremine) toimub tavaliselt inertses atmosfääris või kaitsemeetmetega.
Pärast külma töötamist (joonistamist, veeremist) tuleb lõõmutamine läbi viia kõrge - puhtuse inertse atmosfääri (näiteks kuiv vesinik, lagunenud ammoniaak, kõrge - puhtuse lämmastik) või vaakumis, et vältida oksüdeerumist ja vesinikku neeldumist.
Range testimine: hapnikusisaldust, juhtivust ja mehaanilisi omadusi jälgitakse rangelt.
ASTM B111 C10200 kliimaseadmete vase torude materiaalsed omadused
Kõrge elektriline ja soojusjuhtivus: pehme olekuga elektrijuhtivus, mis on suurem või võrdne 100% IAC -dega, suurepärane soojusjuhtivus, muutes selle suurepäraseks juhtseks ja jahutusradiaatoriks.
Hea elastsus ja sügav joonistatavus (pehme olek): hea plastilisus (suurem või võrdne 45%) lõõmutatud pehgus olekus, muutes selle sobivaks keerukaks külmaks moodustamiseks (sügav joonistamine, ketramine). Madal gaasisisaldus: hapnikusisaldus, mis on väiksem kui 0,0005%, ja madal vesiniksisaldus vähendab tõhusalt vesiniku omastamise riski.
Reliability in High-Temperature Vacuum/Reducing Atmospheres: Excellent stability in high temperatures (>400 kraadi), kõrge vaakum, vesinik või redutseerimine atmosfäärid, ennetades omaks.
Kõrge puhtus ja mikrostruktuuri homogeensus: kogu lisandid, mis on väiksemad või võrdsed 0,05%, ilma kuproksiidi lisamiseta, tagades puhta mikrostruktuuri.
Suurepärane korrosioonikindlus: suurepärane korrosioonikindlus õhus, magevees ja mitte- oksüdeerivad keskkonnad.
Non - magnetiline: puhas vask on olemuselt mitte - magnet.
Suurepärane keevitamine ja kõvajoodistega: eriti sobib kõrge - kvaliteetseks keevitamiseks (elektronkiirekeevitus, laserkeevitamine ja kõvajoodistega) kaitses atmosfääris või vaakumis.
ASTM B111 C10200 soojusvaheti vasktorude materjalide rakendused
Suure puhtuse tõttu kasutatakse hapnikku - vaba ja kõrge soojusjuhtivuse tõttu OFC10200 laialdaselt rakendustes, mis nõuavad elektrijuhtivust, soojusjuhtivust, vaakumkindlust või vesiniku omasavaka vastupidavust:
1. Vaakumseadmed:
Lainejuhid, resonaatorid, kollektsionäärid ja väljundiakna äärikud mikrolainetorude jaoks (rändlainetorud, magnetronid ja klystrons).
Elektroodid, varjestus- ja sisemised juhtivad komponendid vaakumisülitutorudes, x - kiirtorud ja osakeste kiirendi õõnsused.
Vooderdised, elektroodid ja triiklid vaakumkatteseadmete jaoks.
2. kõrge - lõppjuhtmed ja juhtmed:
Sise- ja välimised juhtkonnad (madal kadu) kõrge - sagedusega koaksiaalkaablite jaoks.
Juhid kõrge - kvaliteetsete helikaablite jaoks.
Vool ja stabiliseeritud substraadid krüogeensete veresoonte jaoks ülijuhtivates magnetites.
Kõrge - truudusmähise traat (spetsiaalsed rakendused).
3. Soojuse hajumise komponendid:
Kõrge - Performance soojustoru ja aurukambri korpused, kapillaaride tahtde substraadid (võimendav kõrge soojusjuhtivus, puhtus ja keevitatavus).
Kõrge - elektrienergiaseadmetes (näiteks IGBT moodulid ja laserid) alusplaadid ja jahutusvalamud.
4. pooljuhtide tootmisseadmed:
Seadmete juhtivad komponendid, kandjad ja gaasitorud (nõuab puhtust ja korrosioonikindlust).
5. arhitektuur ja kaunistamine:
Bussid ja maandusmaterjalid kõrgele - otsahoonetele.
Dekoratiivsed või funktsionaalsed vaskmaterjalid, mis vajavad suurt puhtust ja suurt juhtivust.
Lühidalt öeldes tähistab OFC10200 Oxygen - vaba vask kõrge - kvaliteediga tööstuslik hapnik - vaba vask. See saavutab vaakum- või kaitsva atmosfääri sulamis- ja valamisprotsesside kaudu madala hapnikusisalduse (vähem või võrdne 0,0005%) ja kõrge puhtusega (suurem või võrdub 99,95% CU). Selle tulemuseks on suurepärane elektriline ja soojusjuhtivus, parem töötlemise elastsus ja usaldusväärne vastupidavus vesiniku hammasmõõtmise suhtes kõrgel - temperatuuri vaakumis/atmosfääri vähendamine. See on eelistatud materjal kõrge - jõudluse vaakumseadmete tootmiseks, kõrged - lõppjuhtmed, kõrged - efektiivsuse soojuse hajumise komponendid ja pooljuhtide seadmete sisemised komponendid, saavutades hea tasakaalu jõudluse ja kulude vahel.
Miks valida meid
Professionaalne vasktorude tarnija
Alates 2008. aastast ülemaailmsele vasktootekaubandusele pühendatud professionaalse ettevõttena tunnistab GNEE Metal Group sügavalt ASTM B111 standardis sisalduvat kvaliteeti ja vastutust. See standard mitte ainult ei täpsusta keemilisi koostisi ja mehaanilisi omadusi, vaid esindab ka terviklikku kvaliteetset pühendumust, mis hõlmab tootmisprotsesse testimise ja kontrollimiseni. Gnee kinnitab pidulikult globaalseid kliente, et igaüksASTM B111-standard kondensaatori toru ja vasesulamist torudPakume rangelt selle nõudeid sujuva tootmise, lõõmutamise ravi, pöörisvoolu testimise ja mitmesuguste mehaaniliste jõudlustestide osas.
Tsitaadi saamiseks võtke meiega ühendust täna:sales@gneesteel.com
